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水冷無(wú)氧化烘箱，高溫?zé)o氧烘箱 工業(yè)烘箱
水冷無(wú)氧化烘箱，高溫?zé)o氧烘箱 工業(yè)烘箱

水冷無(wú)氧化烘箱，高溫?zé)o氧烘箱升溫方式：程序線性升溫 降溫方式：風(fēng)冷+水冷輔助降溫 氧含量：氧含量≤20ppm

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真空無(wú)氧烤箱，無(wú)氧化真空烘箱 工業(yè)烘箱
真空無(wú)氧烤箱，無(wú)氧化真空烘箱 工業(yè)烘箱

真空無(wú)氧烤箱，無(wú)氧化真空烘箱用于光刻膠BCB，聚酰亞胺PI/CPI固化，BPO固化，LCP纖維熱處理，

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前烘氮?dú)夂嫦洌埠鏉崈艉嫦?工業(yè)烘箱
前烘氮?dú)夂嫦?，硬烘潔凈烘?工業(yè)烘箱

前烘氮?dú)夂嫦?，硬烘潔凈烘箱?yōu)化光刻膠的光學(xué)吸收特性，提高光刻膠對(duì)襯底的黏附性

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外延片烘箱，氮?dú)鉂崈艉嫦?工業(yè)烘箱
外延片烘箱，氮?dú)鉂崈艉嫦?工業(yè)烘箱

外延片烘箱，氮?dú)鉂崈艉嫦溲悠瑢⑺鐾庋悠湃牒嫦渲?在120℃～140℃的溫度下,將所述外延片烘烤10～30分鐘

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墨點(diǎn)烘箱，墨點(diǎn)氮?dú)夂嫦?工業(yè)烘箱
墨點(diǎn)烘箱，墨點(diǎn)氮?dú)夂嫦?工業(yè)烘箱

墨點(diǎn)烘箱，墨點(diǎn)氮?dú)夂嫦涫前雽?dǎo)體行業(yè)，芯片加工工藝流程中打墨點(diǎn)工藝后，將硅片放入烘箱進(jìn)行墨點(diǎn)烘干專用設(shè)備。

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