光伏電池片HMDS處理系統(tǒng)，HMDS預(yù)處理烘箱的作用：

  電池片制備是光伏電池片生產(chǎn)中的核心環(huán)節(jié)，主要包括光刻、擴(kuò)散、沉積和金屬化等工藝步驟

1.光刻:光刻工藝主要利用光刻膠和掩膜將所需的電極圖案投影到硅片表面，并通過(guò)曝光和顯影等過(guò)程形成圖案。

2.擴(kuò)散:擴(kuò)散工藝通過(guò)高溫將摻雜物(如磷或硼)注入硅片中，形成PN結(jié)構(gòu)，從而使其具有正負(fù)電荷分離的能力。

3.沉積:沉積工藝主要是在硅片表面進(jìn)行氧化、硝化或硫化等處理，形成適當(dāng)?shù)碾姵仄砻娼Y(jié)構(gòu)和保護(hù)層

4.金屬化:金屬化工藝將電極材料(如鋁或銀)通過(guò)蒸鍍、濺射或印刷等方法沉積在電池片表面作為電流收集和傳輸?shù)膶?dǎo)體。

    光刻中第一步需要表面預(yù)處理，就是涂膠前要進(jìn)行增粘處理。由于襯底表面吸水特性，使疏水的光刻膠無(wú)法與親水的晶圓表面結(jié)合良好。未經(jīng)過(guò)HMDS表面處理的晶圓在后道工藝中容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。

光伏電池片HMDS處理系統(tǒng)，HMDS預(yù)處理烘箱技術(shù)參數(shù)

主要方法：氣相沉積

工藝步驟：HMDS烘箱在高溫條件下，達(dá)到真空狀態(tài)后開(kāi)始涂布工藝，涂布完成后烘箱內(nèi)部充入N2，排出尾氣，達(dá)到常壓后方可開(kāi)門。

溫度范圍：RT+10-200℃

真空度：≤1torr

控制儀表：人機(jī)界面，自動(dòng)運(yùn)行

儲(chǔ)液瓶：標(biāo)配 

真空泵：無(wú)油渦旋真空泵

數(shù)據(jù)處理：多個(gè)工藝方案，可修改并記錄，使用數(shù)據(jù)可記錄

保護(hù)裝置： 低液位報(bào)警，HMDS藥液泄漏報(bào)&警，超溫保護(hù)并斷開(kāi)加熱，漏電保護(hù)，過(guò)流保護(hù)等