光刻膠HMDS烘箱 HMDS疏水處理烘箱應用多晶硅，石英，太陽能電池片、金屬、貴金屬、藍寶石、SiC(碳化硅)、磷化銦、GaN(氮化鎵)、ZnO（氧化鋅）、GaO（氧化鎵）、金剛石等第三代半導體材料。
光刻膠HMDS烘箱 HMDS疏水處理烘箱研發(fā)背景
集成電路光刻工藝中常使用HMDS對晶圓襯底進行黏附處理，來提高光刻膠與襯底的黏附性,HMDS中文名六甲基二硅氮烷（Si(CH3)3）2NH，行業(yè)所要求純度大于99.7%。
HMDS黏附機 HMDS烘箱 HMDS疏水處理烘箱作用
襯底在空氣中易形成厚度為幾個原子層的二氧化硅薄膜，由于其具有親水性，會吸附空氣中的水分到襯底表面。光刻膠涂層多為有機疏水材料，這就造成了光刻膠與襯底黏附性差。在實際生產中，常將HMDS霧化，并在特定的溫度和壓力條件下處理，來改變晶圓表面的親水性。其原理可以簡述為HMDS中的有機基團取代晶圓表面水分子羥基，使晶圓表面由親水性變?yōu)槭杷浴?/span>
光刻膠HMDS烘箱 HMDS疏水處理烘箱實用性
在光刻中，光刻膠的黏附效果受到光刻涂層，襯底材料，以及光刻工藝三方面的影響。HMDS的黏附處理不只是對硅基襯底有效。也用于其他襯底，諸如多晶硅，石英，太陽能電池片、金屬、貴金屬、藍寶石、SiC(碳化硅)、磷化銦、GaN(氮化鎵)、ZnO（氧化鋅）、GaO（氧化鎵）、金剛石等第三代半導體材料。
HMDS烘箱兼容2~12寸晶圓及碎片、方片等。
設備名稱：HMDS烘箱
設備型號： JS-HMDS90
內腔尺寸：450×450×450、350×350×350（mm）可定制
材質：外箱采用優(yōu)質冷軋板噴塑、304不銹鋼，內箱采用316L級不銹鋼
工藝溫度：110-160℃
真空度：≤1torr
工藝運行：自動運行
